功率(kw):
-重量(kg):
-規(guī)格外形(長*寬*高):
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等離子體刻蝕制造器件過程中,有數個元件可用陶瓷材料制備。等離子體刻蝕的*片應放置在一個陶瓷支架上。為了避免支架上的晶體受到感染,該支架必須能夠完全抵擋等離子體侵入。另外,刻蝕設備的一個關鍵雪件是窗口遮擋裝置,用干傳輸電磁波,在產生等離子體的同時陰擋第四階段物質的侵入。
Nanoe基于上述兩項應用推出一種高純度氧化鋁材料,其中加入氧化釔,允許制作出足夠密度、能抵擋等離子體的工件。
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半導體產業(yè)是關乎國家經濟,政治和國防安全的戰(zhàn)略產業(yè)。在半導體產業(yè)中,先進陶瓷的研發(fā)與生產水平直接影響我國半導體產業(yè)的發(fā)展。因此,無論從經濟安全角度還是產業(yè)成本考慮,要突破我國半導體產業(yè)面臨“卡脖子”的
等離子刻蝕技術是在涂膠的晶圓上高效地復制掩膜圖形,通過化學和物理過程選擇性地從晶圓表面去除不需要的材料的一個重要工藝過程,是現代集成電路制造領域不可缺少的工藝步驟??涛g機,來源:中微半導體隨著集成電路
法國NANOE針對半導體領域的高純度納米粉體應用:plasma echting等離子刻蝕:高純度納米氧化釔和氧化鋁wire bonding陶瓷劈刀:zta 12以及含鉻zta為全球知名半導體領域廠商長