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LK5600光電化學工作站

光電化學工作站是將光化學與電化學方法合并使用，以研究分子或離子的基態(tài)或激發(fā)態(tài)的氧化還原反應現(xiàn)象、規(guī)律及應用的儀器。光電化學工作站可用于研究光直接影響電極過程的電化學、用于光能與電能和化學能的轉換測量、光電化學電池的光電轉化測量、光電合成。利用光電化學原理可以富集稀有金屬和貴金屬，又可以記錄和保存信息，還可用簡單的方法隨時消去信息，這些都是發(fā)展科學技術所必需的手段。

一、技術指標：

氙燈光源參數(shù): *聚焦透鏡焦距調(diào)整范圍：0～40 mm; *平行光光斑直徑：38 mm ; *點光源光斑：8 mm;（根據(jù)用戶要求可調(diào)） * 光譜范圍：200～1500nm; * 波長重復性：0.1nm; * 光譜帶寬：0.054nm～16.2nm; * 準確度：0.25nm; * *小步距：0.01nm; * 焦面尺寸：寬25mm*高10mm; * 狹縫：寬度10um~3mm可調(diào); * 高度：4mm; * 氙燈壽命：1000小時; 氙燈穩(wěn)流電源參數(shù): * 工作電壓：220V ±10% ; * 耗費功率：<350w>300V; * 電流峰值紋波因素：0.075%。電化學工作站: * 電位范圍：-10 V～10 V; * 電流范圍：±250 mA;恒電位/恒電流（電位分辨率**） 0.01mV、電流靈敏度 ≤0.01pA　 * 參比電極輸入阻抗：1012Ω; * 靈敏度：±10mA～±1nA （8個量程檔位）; * 輸入偏置電流：<10 pA ，電位增量：0.01 mV; * 掃描速率：0.01mV/S～5000V/S。低噪聲程控放大1～64倍。

二、光電化學工作站功能

該儀器采用閉環(huán)控制技術調(diào)節(jié)和調(diào)制光強和單色光， 從而保證了光源的**穩(wěn)定性. 在儀器匹配的光源內(nèi)裝有光強傳感器， 工作時系統(tǒng)自動比較并計算測得的實際光強與設定值的偏差并加以校正，這樣就消除了由于光源器件的非線性、老化、以及溫度漂移產(chǎn)生的光強輸出誤差。不僅如此，儀器還允許直接輸入單位為(W/cm2)的具體數(shù)值校正光源，非常方便。該工作站負責控制、驅動激發(fā)光源，輸出強度調(diào)制光信號。

太陽能電池 (如燃料敏化太陽能電池)，半導體材料 ，光誘導的化學反應

Fill factor:光電池填充因子效率。IMPS: 強度調(diào)制光電流譜。CIMPS：可控強度調(diào)制光電流譜。IMVS： 強度調(diào)制光電壓譜 。CIMVS：可控強度調(diào)制光電壓譜。IPCE: 光電轉換效率。PVI： 光致電流電壓特性。PCS： 光電流譜。CTF： 交叉?zhèn)鬏敼δ苎芯?。IPCE: 轉化效率。透射和吸收研究（以上方法均可用于調(diào)制單色光）。其他常規(guī)的電化學方法，恒電位技術：開路電位&時間測量曲線、單電位階越計時電流法、雙電位階越計時電流法、單電位階越計時電量法、雙電位階越計時電量法、恒電位電解庫侖分析法；線性掃描技術：線性掃描伏安法、循環(huán)伏安法、塔菲爾（Tafel）曲線測量、線性掃描溶出伏安法；脈沖技術：微分脈沖伏安法、微分脈沖溶出伏安法；方波技術：方波伏安法、方波溶出伏安法(EIS，CV等所有電化學功能)。

三、工作環(huán)境

1）環(huán)境溫度：-15^oC ～~ 45 ^oC

2）環(huán)境相對濕度：< 75%

3）儀器四周通風良好，空氣中不含腐蝕性氣體。

4）儀器周圍無強電磁場干擾。

5）電源電壓：AC220V（50Hz）±10%。

天津市蘭力科化學電子高技術有限公司