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            擴散氧化爐(科研型)
            擴散氧化爐(科研型)

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            型號

            擴散氧化爐(科研型)

            品牌

            艾科威

            產地

            湖南

            樣本

            暫無
            湖南艾科威半導體裝備有限公司

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            技術指標

            ●適用晶片尺寸 :  2~8英寸圓片

            ●工作溫度: 600℃~1300℃; 

            ●可配工藝管數量:1~2管/臺

            ●恒溫區(qū)長度及精度:≤±0.5℃/300~600mm (800℃~1300℃),

            ● 單點溫度穩(wěn)定性:≤±0.5℃℃ /24h (1100℃); 

            ●溫度斜變能力:**升溫速率20℃/min,**降溫速率5℃/min; 

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            10分

            易用性

            10分

            性價比

            10分
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