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            高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PVD400
            高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PVD400

            參考價(jià)格

            面議

            型號(hào)

            高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PVD400

            品牌

            沈陽(yáng)科學(xué)儀器

            產(chǎn)地

            遼寧

            樣本

            暫無(wú)
            中國(guó)科學(xué)院沈陽(yáng)科學(xué)儀器股份有限公司

            高級(jí)會(huì)員

            |

            第1年

            |

            生產(chǎn)商

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            真空室結(jié)構(gòu):

            方形前開(kāi)門

             

            真空室尺寸:

            φ400x400x400mm

             

            極限真空度:

            ≤6.6E-5Pa

             

            沉積源:

            永磁靶3套,φ2英寸

             

            樣品尺寸,溫度:

            φ4英寸,1片,**800℃

             

            占地面積(長(zhǎng)x寬x高):

            約1.8米×1.7米×2米

             

            電控描述:

            全自動(dòng)

             

            工藝:

            片內(nèi)膜厚均勻性:≤±3%

             


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            10分

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