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電子束蒸發(fā)設備—E-Beam-UHV品牌
致真精密產地
安徽樣本
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電子束蒸發(fā)設備可以在高真空和超高真空環(huán)境下實現精確的多層薄膜制備。線性電子束槍可以實現多種材料的蒸發(fā)。設備可選配考夫曼離子源實現晶圓的預清洗，可用于超導量子等領域，適用于高校及企業(yè)研發(fā)和小規(guī)模生產場合。
性能參數
| 晶圓尺寸 | 4inch~8inch |
| 極限真空 | 優(yōu)于1×10-9mbar |
| 溫控 | RT-800℃ |
| 電子束槍 | 超高真空線性運動電子束槍，可選配坩堝數量和容量（標配，10KW，6×15cc） |
| 晶圓清洗 | 可選配考夫曼離子源實現晶圓清洗 |
| 清洗均勻性 | 例：4inch晶圓優(yōu)于±3% |
| 控制系統 | PC+PLC，全自動操作與安全互鎖 |
| 樣品臺 | 180度傾斜，360度旋轉，可選升降與偏壓 |
| 膜厚測量 | 膜厚儀，可伸縮 |
| 占地面積 | 3m L*2m W*2m H |
| 可選 | 低溫泵、自動傳輸、工藝菜單等 |
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