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            氮化鎵(GaN)HVPE單晶生長(zhǎng)設(shè)備 立式
            氮化鎵(GaN)HVPE單晶生長(zhǎng)設(shè)備 立式

            參考價(jià)格

            面議

            型號(hào)

            氮化鎵(GaN)HVPE單晶生長(zhǎng)設(shè)備 立式

            品牌

            山東力冠

            產(chǎn)地

            山東

            樣本

            暫無(wú)
            山東力冠微電子裝備有限公司

            高級(jí)會(huì)員

            |

            第1年

            |

            生產(chǎn)商

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            產(chǎn)品特點(diǎn)/Product Characteristics:

            ? 基礎(chǔ)工藝包

            Basic process package

            1.氮化鎵(GaN)單晶生長(zhǎng)尺寸: 2英寸

            Gallium nitride (GaN) single crystal growth size: 2 inches

            2.單晶生長(zhǎng)速率:≥50微米/小時(shí)

            Single crystal growth rate:≥50 microns/hour

            3.藍(lán)寶石襯底外延生長(zhǎng)氮化鎵(GaN)單晶層厚度: < 200微米


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            10分

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